產(chǎn)品別名 |
地坪拋光液 |
面向地區(qū) |
全國 |
拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。
氧化鋁拋光液的硬度高，穩(wěn)定性好，納米級的氧化鋁適用于光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等的精密拋光，應(yīng)用相當(dāng)廣泛。當(dāng)前，以高亮度GaN基藍(lán)光LED為核心的半導(dǎo)體照明技術(shù)在照明領(lǐng)域引起了很大的轟動，并成為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。但GaN很難制備，在其它襯底晶片上外延生長薄膜，如藍(lán)寶石晶片或碳化硅晶片，因此晶片的拋光也成為關(guān)注的焦點(diǎn)。
近年來，國際上采用了一種新的工藝，即用Al2O3拋光液一次完成藍(lán)寶石、碳化硅晶片的研磨和拋光，大大提高拋光效率。不過，由于納米α-氧化鋁的硬度很高，因此拋光時(shí)易對工件表面造成嚴(yán)重的損傷；而且納米氧化鋁的表面能比較高，粒子易團(tuán)聚，也會造成拋光工件的劃痕、凹坑等表面缺陷。近年來對氧化鋁拋光液的研究主要集中在納米磨料制備、氧化鋁顆粒表面改性、氧化鋁拋光液混合應(yīng)用等方面。
