用途：制造玻璃，耐火材料(爐料），冶煉硅鐵，涂料，橡膠填料，冶金熔劑，陶瓷，研磨材料，金屬表面處理等方面，在建筑中利用其有很強的抗酸性介質(zhì)浸蝕能力，制取耐酸混凝土及耐酸砂漿。
石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式:
1、干法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、粉碎機、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過粉碎機加工砂粒，然后經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
2、水法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動篩、水路系統(tǒng)等。
其工藝流程大致如下：石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過石碾碾壓成砂粒，碾壓時不停的加水，水帶著砂粒流入沉淀池內(nèi)，再把沉淀池內(nèi)的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒，然后再經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
優(yōu)良的自然石英,經(jīng)由過程怪異的低溫處置工藝加工而構成的粉末,重鈣粉使其份子布局分列由有序分列轉為無序分列.其色白,純度較高、活動機能好、并具備如下機能:
一、精良的光學性子:方石英的折射率從石英的1.55降低到1.48,更靠近PE、PP及一些樹脂的折射率.夾雜后的樹脂呈通明狀,不粉飾顏料自己的色采,而用別的填料添補則會使顏料的色采變淺、失真.
二、反射率:方石英的詳細布局有助光反射,可代替玻璃微珠作反光油漆,既可加強防滑性,又可進步油漆的反光性.
三、白度,低密度、光彩亮光:方石英的白度達95%以上,在涂料、油漆中使用,可代替部門鈦白粉,低落配方本錢.
四、抗腐化,耐刻畫、耐擦洗、耐磨機能好.
五、不含有機物凈化,金屬含量極低:可加強涂料的抗紫內(nèi)線本領,并具備精良的絕緣性、精良的電磁輻射性和低的介電常數(shù).
六、精良的抗熱震性.方石英受熱220m240℃左右時,產(chǎn)生必定水平的熱收縮,恰好抵償環(huán)氧樹脂、石膏等在此溫度下固化反響時的緊縮,使?jié)沧Ⅲw不變形.
七、極低的熱收縮系數(shù)、抗積淀性好、抗腐化性好.
利用行業(yè):電子質(zhì)料、高功效環(huán)氧樹脂、緊密鍛造、電瓷、電子晶片打磨、拋光質(zhì)料、珠寶行業(yè)、特種陶瓷質(zhì)料、特種耐火質(zhì)料、造紙、涂料油漆涂料、緊密模具、屏障質(zhì)料行業(yè),日用化工,粘合劑,塑料,PTC質(zhì)料、航空、航天、齒科質(zhì)料和硅橡膠等中填料,各種產(chǎn)業(yè)庇護涂料、木器、粉末涂料、油墨及其余功效性利用
超細石英粉可以達到3000目，國內(nèi)少數(shù)幾家生產(chǎn)，此類產(chǎn)品應用基本都屬于精細化工，屬于戰(zhàn)略資源。石英粉具體介紹如下：
由高純石英粉經(jīng)的超細研磨工藝加工而成的產(chǎn)品我們一般稱之為硅微粉，也可稱為超細石英粉,是用途極為廣泛的無機非金屬材料.具有介電性能、熱膨脹系數(shù)低、導熱系數(shù)高、懸浮性能好等優(yōu)點.因其具有優(yōu)良的物理性能、的化學穩(wěn)定性、特的光學性質(zhì)及合理、可控的粒度分布。
優(yōu)點：
1、顯著提高抗壓、抗折、抗?jié)B、防腐、抗沖擊及耐磨性能，顯著延長砼的使用壽命，特別是在氯鹽污染侵蝕、硫酸鹽侵蝕、高濕度等惡劣環(huán)境下，可使砼的耐久性提高一倍甚至數(shù)倍?！ ?br />
2、具有保水、防止離析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。具有約5倍水泥的功效，在普通砼和低水泥澆注料中應用可降低成本。提高耐久性。
3、提高澆注型耐火材料的致密性，在與Al2O3并存時，更易生成莫來石相，使其高溫強度，抗熱振性增強?！ ?br />
從而被廣泛應用于光學玻璃、電子封裝、電氣絕緣、陶瓷、油漆涂料、精密鑄造、硅橡膠、醫(yī)藥、化裝品、電子元器件以及超大規(guī)模集成電路、移動通訊、手提電腦、航空航天等生產(chǎn)領域。
微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應，反應氣體經(jīng)旋風分離除去雜質(zhì)，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi)，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶，用酸除去雜質(zhì)，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進行進一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開式電弧爐，加熱到1900℃左右進行還原。
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