鍍錫添加劑有機(jī)酸啞光甲基磺酸啞光SN-120
產(chǎn)品別名 |
開(kāi)缸劑,鍍錫藥水,甲基磺酸添加劑 |
面向地區(qū) |
|
品牌 |
銀田科創(chuàng) |
產(chǎn)地 |
江蘇 |
用途級(jí)別 |
工業(yè)級(jí) |
代號(hào) |
RD-1 |
執(zhí)行質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn) |
國(guó)標(biāo) |
包裝 |
桶裝 |
類(lèi)別 |
絡(luò)合劑 |
型號(hào) |
SN-120 |
操作不懂的朋友可致電: 閆經(jīng)理
SN-120 產(chǎn)品說(shuō)明
SN-120系列甲基磺酸型啞光鍍錫添加劑是我公司綜合樂(lè)思,羅門(mén)哈斯等進(jìn)口產(chǎn)品的技術(shù)基礎(chǔ)上,結(jié)合自主創(chuàng)新,開(kāi)發(fā)的一款適合于電子元器件的滾、掛鍍的啞光高速鍍錫添加劑,完全滿足歐洲RoHS指令的要求,不含任何受限成分,完全滿足國(guó)內(nèi)的環(huán)保要求。本添加劑具有高分散能力、高穩(wěn)定性的特點(diǎn),可以在很寬的操作溫度范圍內(nèi),獲得均勻、穩(wěn)定的無(wú)光澤純錫鍍層。該工藝的鍍層結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,結(jié)晶均勻,鍍件長(zhǎng)期存放不變色,并能保持良好的可焊性。是目前國(guó)內(nèi)好的甲基磺酸型啞光鍍錫添加劑產(chǎn)品之一。
SN-120系列啞光鍍錫工藝的主要優(yōu)勢(shì)在于:
1、可允許的操作范圍廣,電流密度范圍(0.5-25A/dm2)便于日常生產(chǎn)操作及維護(hù);
2、鍍層結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,結(jié)晶均勻,鍍件長(zhǎng)期存放不變色,經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間高溫和蒸汽老化試驗(yàn)或長(zhǎng)期存放后,仍能保持啞光色澤和優(yōu)良的焊接性能;
3、鍍液分散性好,特別適用于貼片二極管等各種半導(dǎo)體元器件的滾、掛鍍啞光高速鍍錫;
4、兼容性強(qiáng),能與之前所使用的美國(guó)、臺(tái)灣、日本等各型號(hào)添加劑兼容,不需另配鍍液。
5、廢水處理容易,腐蝕性低,完全可達(dá)到環(huán)保的要求;
6、鍍液配制簡(jiǎn)單,且可長(zhǎng)年保持穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單;
7、消耗量低,SN-120的日常添加量為200-400ml/KA﹒H,日常補(bǔ)充時(shí)需另考慮帶出損失量。
一、鍍液組成
成分
單位
范圍
佳值
錫(Sn)
g/L
50-80
60-70
甲基磺酸70%(MSA)
mL/L
130-200
140-160
SN-12劑
mL/L
20-50
20-30
二、工藝操作條件
參數(shù)
單位
范圍
電流密度
A/dm2
0.5-25
鍍液溫度
℃
20℃ - 30℃
陽(yáng)極面積:陰極面積
2:1
陽(yáng)極
純錫球或錫板(純度99.9%以上)
三、工藝設(shè)備:
1、電鍍槽:所用材料耐酸,建議用PP、PVC等材料,不可使用金屬鍍槽。
2、溫度控制:需要設(shè)置適當(dāng)?shù)睦鋮s設(shè)備。
3、攪拌裝置:建議使用泵循環(huán)及陰極移動(dòng)。
4、過(guò)濾器:采用5-8微米的濾芯連續(xù)過(guò)濾,濾芯要耐腐蝕,每小時(shí)流量應(yīng)高達(dá)總液量的3-5倍。
5、陽(yáng)極:采用純錫陽(yáng)極
6、整流器:電流波幅不應(yīng)超過(guò)5%。
7、其他設(shè)備:通風(fēng)設(shè)備,安培計(jì)等。
四、配槽方法:
1、 經(jīng)清洗干凈的鍍槽中注入2/3的純水;
2、 在緩慢攪拌的情況下,加入定量的70%甲基磺酸;
3、 在緩慢攪拌的情況下,加入定量的甲基磺酸錫濃液;
4、 在緩慢攪拌的情況下,加入定量的SN-12劑;
5、 加純水至工作標(biāo)準(zhǔn)液位,攪拌均勻,
充分?jǐn)嚢杈鶆蚝罂蛇M(jìn)行試鍍。
五、鍍液維護(hù)管理:
1、定期取樣分析鍍液中錫和酸的濃度,向鍍液中補(bǔ)加甲基磺酸,將鍍液組成控制在操作范圍之內(nèi)。
2、穩(wěn)定地調(diào)控好操作時(shí)的溫度、電流密度和攪拌速度,可以獲得外觀一致的鍍層;
3、保持溶液的清潔,防止金屬雜質(zhì)和其它有機(jī)物的進(jìn)入,定期使用瓦楞型的陰極進(jìn)行低電流密度(0.1~0.5 A/dm2)電解。如遇有機(jī)雜質(zhì)污染鍍液,加入2-4g/L活性炭連續(xù)過(guò)濾4-8小時(shí)。切勿混入氯離子,鍍液中氯離子超過(guò)0.3g/L,會(huì)使鍍層出現(xiàn)晶須及深鍍能力下降。
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