利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置，可以通過紅外加熱容易地進行迅速的升溫和清潔的加熱。
一種臺式紅外真空爐，由紅外輻射器，真空室，編程的溫度控制器和安全裝置組成。
有真空室型和石英管法蘭型。


高升溫速度150℃/秒，加熱時間可達1500℃約1min
不受熱量源或電磁感應產(chǎn)生的氣體影響的清潔加熱
我們還可以選擇觀察高溫樣品。

樣品在真空/氣流中退火
半導體樣品（例如硅和SiC）和氧化物的熱處理
加熱石墨烯和CNT
溫材料（例如高耐熱金屬和陶瓷）的溫度測試
氧氣，氫氣等氣流退火
濕度測試

紅外真空爐IVF系列包括以下規(guī)格的產(chǎn)品。
　石英管類型 房車類型 　在氣流中加熱樣品的理想選擇。
　面對面照射石英管型 簡歷類型 　從上方和下方照射紅外線。
　用于加熱固體和粉末。
　冷凝照射方式 W型 　敞開的艙門可輕松放入和取出樣品。
　有許多帶有端口的腔室，它支持各種實驗。
　表面照射類型 P型/ PD型 　用于加熱2英寸大小的樣品。
　石英管式紅外真空爐IVF-RV型
型號名稱 IVF198RV IVF298RV
　紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
　高溫度 1400℃ 1600℃
　受熱面 φ20毫米
　大加熱速度 50℃/秒 100℃/秒
　大極限真空 5×10 -4帕
　冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘 IVF298RV
　面對面照射石英管式紅外真空爐IVF-CV型
型號名稱 IVF198CV IVF298CV
　紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
　高溫度 1500℃ 1700℃
　受熱面 φ10毫米×10毫米 φ15毫米x 10毫米
　大加熱速度 50℃/秒 100℃/秒
　大極限真空 5×10 -4帕
　冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘 IVF298CV
　冷凝照射式紅外真空爐IVF-W型
型號名稱 IVF198W IVF298W
　紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
　高溫度 1300℃ 1500℃
　受熱面 ?Φ20毫米
　大加熱速度 50℃/秒 100℃/秒
　大極限真空 5×10 -4帕
　冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘 IVF298W
　表面照射式紅外線真空爐IVF-P / PD型
型號名稱 IVF29P IVF29PD IVF39PD
　紅外燈額定值 2千瓦 2千瓦x 2 3千瓦x 2
　高溫度 800℃ 1000℃ 1200℃
　受熱面 φ50毫米
　大加熱速度 20℃/秒 50℃/秒
　大極限真空 5×10 -4 P
　冷水量 2升/分鐘 IVF29P　IVF39PD


石英管式紅外真空爐IVF-RV型
面對面照射石英管式紅外真空爐IVF-CV型
冷凝照射式紅外真空爐IVF-W型
表面照射型紅外線真空爐P型/ PD型


將樣品放在透明的石英芯管中，并從上方輻射紅外線以升高溫度。
由于熱源的紅外燈位于芯管的外部，因此無需擔心來自熱源的污染，并且可以清潔地加熱樣品。
使用NW40和真空法蘭部件的1/4管接頭，可以在更換真空后邊加熱氣體邊加熱樣品。
通過添加單元，可以將系統(tǒng)升級為CV類型。

IVF298RV　　　　


將樣品放置在透明的石英玻璃芯管中，并從上方和下方放射紅外線以升高溫度。
可以在比RV型更高的溫度下加熱。
由于熱源的紅外燈位于芯管的外部，因此無需擔心來自熱源的污染，并且可以清潔地加熱樣品。
加熱固體和粉末樣品的理想選擇。

IVF298CV　　　


該模型使用具有8個端口的高度可擴展的真空室。
頂部表面張開，可以輕松安裝樣品并在腔室內(nèi)進行操作。



有P型從頂部照射紅外線，PD型從頂部和底部加熱。
2英寸的樣品幾乎可以均勻加熱。
IVF29P　　　IVF29P-ill

　　IVF39PD　　　IVF39PD病
* PD型是落地型。

查看全部介紹